기술적 특성
고품질 파우더
PREP 장비는 중공 또는 위성 입자가 최소화되고 가스 포함이 적은 부드럽고 깨끗한 표면을 특징으로 하는 최고 수준의 파우더 품질을 보장하여 재료 무결성 및 성능을 향상시킵니다.
간단한 프로세스 매개변수 제어
PREP 장비를 사용하면 공정 파라미터를 간편하게 제어할 수 있습니다. 사용자 친화적인 인터페이스를 통해 간편한 조작과 자동화된 생산이 가능하므로 워크플로우가 간소화되고 수동 개입이 줄어듭니다.
다양한 활용성
적응력이 뛰어난 PREP 장비는 티타늄, 니켈, 코발트, 내화 금속, 합금 등 다양한 재료를 생산하기에 적합하며 다양한 제조 요구 사항을 쉽게 충족합니다.
성숙한 프로세스 기술
성숙한 공정 기술을 기반으로 구축된 PREP 장비는 신뢰성과 효율성을 제공합니다. 연구 및 배치 생산 분야에서 입증된 실적을 바탕으로 업계 요구 사항을 효율적으로 충족할 수 있다는 확신을 심어줍니다.
적합한 재료
분쇄 특성
높은 구형성
PREP 장비는 높은 구형도를 가진 분말을 일관되게 공급하여 다양한 제조 공정에 중요한 균일한 입자 모양과 크기 분포를 보장합니다.
입자 크기 범위
일반적으로 30~300마이크로미터의 다양한 입자 크기 범위를 갖춘 PREP 장비는 특정 응용 분야 요구 사항에 따라 유연하게 맞춤화할 수 있어 다양한 재료 요구 사항을 수용합니다.
구체적인 예 - Ti64 G5 파우더
예를 들어, Ti64 G5 파우더의 경우 PREP 장비는 75~200마이크로미터 범위의 D50 입자 크기 분포를 달성합니다. 이 목표 크기 범위는 적층 제조 및 정밀한 분말 특성이 필수적인 기타 응용 분야에 이상적입니다.
기술 매개변수
| 유도 전극 지름 | 50~80mm |
| 유도 전극 길이 | ≤700mm |
| 바 용량 | 60 |
| 로테이션 속도 | 0~33000r/min |
| 전체 전력 | 200KW |
| 작동 진공도 | 6.67×10-3Pa |
| 궁극의 진공도 | 6.67×10-1Pa |
| 압력 상승률 | ≤2Pa/h |
| 구형성 | ≥95% |
| 크기(L×W×H) | 8m×7m×7.5m |
PREP 장비 FAQ
PREP 장비란 무엇인가요?
EIGA 장비는 금속을 전극 유도 용융한 후 가스 분무로 미세한 분말 입자를 형성하는 공정을 통해 합금 금속 분말을 생산하는 데 사용되는 특수 시스템입니다.
PREP 장비는 어떻게 작동하나요?
PREP 장비는 플라즈마 아크를 사용하여 금속 전극을 녹인 후 분무하여 미세한 분말 입자를 생성하는 방식으로 작동합니다. 회전 전극 설계는 균일한 입자 분포와 일관된 품질을 보장합니다.
PREP 장비로 처리할 수 있는 재료에는 어떤 것이 있나요?
PREP 장비는 티타늄, 니켈, 코발트, 내화성 금속과 같은 금속과 그 합금을 포함한 광범위한 재료를 가공할 수 있어 다양한 산업 요구를 충족합니다.
PREP 장비를 사용하면 어떤 이점이 있나요?
PREP 장비의 장점으로는 분말 입자의 높은 구형도, 입자 크기 분포에 대한 정밀한 제어, 특정 애플리케이션을 위한 맞춤형 옵션, 효율적인 생산 공정 등이 있습니다.
PREP 장비는 대규모 생산에 적합합니까?
예, PREP 장비는 연구 및 산업 규모의 생산 모두를 위해 설계되어 다양한 제조 애플리케이션의 요구를 충족하는 높은 처리량과 확장성을 제공합니다.
PREP 장비가 특정 입자 크기 분포를 가진 분말을 생산할 수 있습니까?
예, PREP 장비를 사용하면 입자 크기 분포를 정밀하게 제어하고 특정 요구 사항에 따라 파라미터를 사용자 지정할 수 있어 일관된 품질과 성능을 보장할 수 있습니다.
PREP 장비에는 어떤 품질 보증 조치가 마련되어 있나요?
PREP 장비에는 일반적으로 입자 크기 분석, 형태 검사, 화학 성분 분석과 같은 품질 관리 조치가 포함되어 있어 산업 표준을 충족하는 고품질 분말을 생산할 수 있습니다.
PREP 장비 운영에 대한 교육이 제공되나요?
많은 PREP 장비 공급업체는 안전하고 효율적인 운영을 보장하기 위해 장비 작동, 유지보수 절차, 안전 프로토콜 및 문제 해결 기술을 다루는 운영자를 위한 포괄적인 교육 프로그램을 제공합니다.